停止为真空室加热吧（转而给晶圆加热吧）
如果你曾经在半导体真空室中使用过高功率的红外灯，那么你就会明白其中的问题所在。因为必须不断与热量作斗争。
问题在于，普通的红外灯会将能量向各个方向散发——也就是360度全方位照射。在密闭的真空环境中，大部分热量根本无法接触到晶圆，而是直接照射在真空室的墙壁上。这样一来，大量能量被白白浪费掉了，而且设备的外壳也会变得非常热，甚至有可能烫伤人。
解决方法就是：定向加热。
我们不再使用普通的石英管，而是采用反射涂层或抛物面反射器，将红外能量精确地引导到需要加热的位置。这样就可以减少能量的浪费。
虽然这只是一个小改动，但它却能带来巨大的改善。你无需再试图为整个设备加热，只需专注于需要加热的部分即可。
当然，不能随便使用任何灯具。我们通常选择短波红外发射器，因为它们更适合在真空环境下工作，而且能更有效地与半导体材料发生作用。
不过，有一点需要注意：**要控制好功率密度。**由于这些灯具会集中热量，如果焦点偏差几毫米，就很容易产生过热现象。为避免这种情况，我建议使用PID控制器以及响应速度快的测温仪。如果不调整好参数，就有可能烧毁晶圆的边缘。
最棒的是，一旦采用了这种方式，就不再需要那种笨重的冷却装置了。设备的表面不会变得很热，操作人员也不用担心在维护过程中被烫伤。此外，还可以提高生产效率，而不必再花钱升级制冷系统。真是简单又有效的方法。