Trong quy trình sản xuất, ngay từ khoảnh khắc wafer được rửa sạch, thời gian bắt đầu tính toán ngay lập tức. Bất kỳ sự chậm trễ nào trong quá trình làm khô wafer cũng có thể dẫn đến hiện tượng méo hình dạng của wafer, xuất hiện các hạt bụi, và những yếu tố này sẽ tiếp tục ảnh hưởng đến quá trình in ấn và khắc trên wafer. Các thiết bị làm khô wafer của chúng tôi được thiết kế để loại bỏ những yếu tố gây biến động này. Chúng giúp kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác trong suốt quá trình làm khô, nhờ đó độ dày lớp phim quang học vẫn duy trì ở mức mong muốn, từ lần in này sang lần in khác.
Điều quan trọng nhất chính là việc kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác. Chúng tôi sử dụng nguồn ánh sáng hồng ngoại cường độ cao và trung bình, được đặt trong các vỏ bọc bằng thủy tinh, sao cho phù hợp với khả năng hấp thụ ánh sáng của nước và các chất dung môi dùng để rửa wafer. Độ đồng đều về nhiệt độ trên toàn bề mặt wafer đạt mức ±0,1°C, và nhiệt độ được duy trì ổn định trong suốt quá trình làm khô. Khả năng tương thích với môi trường sạch loại 1–100 không phải là tính năng phụ; đó là điều được tính toán từ đầu thông qua việc sử dụng vật liệu ít thải khí, vỏ bọc kín, và hệ thống luồng khí có áp suất dương để giảm thiểu sự hình thành các hạt bụi. Hiệu suất hoạt động của thiết bị vẫn ổn định trong hơn 5.000 giờ, với mức sai số về cường độ ánh sáng dưới 5%. Các chức năng hiệu chuẩn tích hợp và hệ thống kiểm soát PLC giúp đảm bảo rằng mọi quá trình làm khô diễn ra trong phạm vi nhiệt độ cho phép. Thiết kế đèn và gương phản chiếu giúp giảm mức tiêu thụ năng lượng.
Bạn cần một giải pháp làm khô wafer có khả năng theo kịp tốc độ sản xuất, mà không cần phải liên tục điều chỉnh nhiệt độ hay giải thích những biến động xảy ra trong quá trình sản xuất. Những chiếc đèn này giúp rút ngắn thời gian làm khô và giảm lượng phế phẩm, nhờ vào việc duy trì độ đồng đều về nhiệt độ giữa các wafer, giữa các lô sản phẩm, và từ ngày này sang ngày khác. Khi gradient nhiệt độ giữa các vùng khác nhau của wafer bị loại bỏ, quá trình sản xuất sẽ trở nên dễ dự đoán hơn, giúp giảm số lượng khiếm khuyết và công việc sửa chữa. Mức tiêu thụ năng lượng cũng giảm xuống, vì đèn có thể duy trì nhiệt độ ổn định một cách nhanh chóng, với mức sai số tối thiểu.
Việc điều chỉnh cường độ ánh sáng của đèn sao cho phù hợp với yêu cầu của vật liệu wafer và môi trường sản xuất phụ thuộc vào mật độ năng lượng, phản ứng quang phổ, và cấu trúc lắp đặt. Chúng tôi thiết kế hệ thống sao cho phù hợp với đường kính wafer, thời gian làm khô, và mức độ sạch của môi trường sản xuất. Chúng tôi cũng cung cấp các giao diện kết nối với hệ thống PLC và các thiết bị kiểm soát an toàn. Quá trình làm nóng và làm lạnh diễn ra một cách kiểm soát được; tốc độ thay đổi nhiệt độ cần được lập trình cẩn thận để tránh gây tổn hại cho đèn và wafer. Hãy đảm bảo rằng hệ thống thông gió và làm mát phù hợp với yêu cầu của vỏ bọc đèn. Khi việc tích hợp được thực hiện đúng cách, thiết bị có thể hoạt động 24/7 với khoảng thời gian bảo trì dự đoán được và ít giờ ngừng hoạt động nhất có thể.