Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, sự chênh lệch nhiệt độ 0,2°C trong quá trình xử lý nhiệt không phải là điều nhỏ nhặt – đó là yếu tố ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng sản phẩm. Chất cảm quang DUV sẽ giữ nguyên các kích thước quan trọng của mình trong vài phút đầu tiên sau khi được xử lý nhiệt. Bước xử lý nhiệt này còn giúp loại bỏ chất lỏng dư thừa, kiểm soát áp lực trên lớp phim và ngăn chặn hiện tượng xuất hiện các vết nứt trên bề mặt lớp phim. Khi độ đồng nhất về nhiệt độ bị suy giảm, các chi tiết trên lớp phim sẽ bị biến dạng, gây ra sai lệch về kích thước, và điều này có thể khiến toàn bộ sản phẩm bị hỏng.
Những yếu tố quan trọng trong quy trình xử lý nhiệt
Chúng tôi sử dụng loại đèn xử lý nhiệt DUV hoạt động dựa trên nguyên lý sưởi ấm bằng tia hồng ngoại gần (NIR). Trường nhiệt được duy trì ở mức độ đồng nhất, ngay cả ở cấp độ dưới milimét. Độ lặp lại của quy trình xử lý nhiệt cũng rất cao. Hình dạng của bộ phản xạ nhiệt được thiết kế sao cho phù hợp với hình dạng của wafer, chứ không chỉ dựa vào thông số đo từ bộ sưởi ấm. Trên wafer có kích thước 300 mm, khu vực xử lý nhiệt có khả năng kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác, giúp duy trì nhiệt độ xử lý nhiệt trong khoảng cho phép, từ đó bảo vệ lớp phim khỏi các tác động xấu do nhiệt độ. Hệ thống này được thiết kế để hoạt động trong môi trường phòng sạch cấp độ 1–100; các vật liệu và bộ phận cách nhiệt được chọn lựa kỹ lưỡng để đảm bảo rằng không có hạt bụi nào sinh ra trong quá trình xử lý nhiệt.
Tại sao phương pháp này hiệu quả trong sản xuất
Trong nhà máy sản xuất, chúng ta cần quy trình xử lý nhiệt có tính lặp lại cao, ngay cả khi thay đổi ca làm việc hoặc lô sản xuất. Loại đèn này giúp duy trì tính lặp lại của quy trình xử lý nhiệt trong suốt 24/7, giúp giảm thiểu thời gian ngừng máy. Kết quả là giảm số lần phải làm lại sản phẩm, đảm bảo độ đồng nhất về kích thước của lớp phim, và kiểm soát quá trình bay hơi của chất lỏng trên wafer một cách chính xác – mà không cần phải điều chỉnh lại thông số nhiệt độ hay tiến hành kiểm tra lại quy trình xử lý nhiệt sau khi bảo trì.
Những chi tiết quan trọng cần lưu ý
Phương pháp xử lý nhiệt bằng tia hồng ngoại gần rất nhanh và hiệu quả, nhưng đòi hỏi phải có sự cân chỉnh quang học chính xác và môi trường có độ phản xạ được kiểm soát tốt. Đèn xử lý nhiệt cần được chọn sao cho phù hợp với loại chất cảm quang và điều kiện bề mặt sau của wafer; nếu không, sự khác biệt về độ phản xạ có thể gây ra những sai lệch nhỏ trên bề mặt wafer. Hãy thực hiện một quy trình kiểm tra ngắn với loại chất cảm quang hiện tại, sau đó fix lại các thông số kỹ thuật. Một khi đã được cân chỉnh chính xác, quy trình xử lý nhiệt sẽ diễn ra ổn định, mang lại hiệu quả cao cho dây chuyền in ấn.