Op de lithografieafdeling is een verschuiving van een halve graad tijdens het verhitten van de fotoresist al voldoende om de kritieke dimensies te verstoren en daardoor veel wafer’s te beschadigen. In een schone ruimte van klasse 1–100 moet de verwarmingsunit een constante temperatuur leveren, zonder dat er deeltjes vrijkomen of er sprake is van fluctuaties in de temperatuur. We hebben onze infraroodverwarmers zo ontworpen dat ze als ‘ankerpunt’ dienen voor dit proces, en niet als extra apparaat.
Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken kortegolflange infrarood-elementen met een snelle respons en nauwkeurige spectrale controle. Hierdoor wordt de warmte rechtstreeks overgedragen op de wafer en de draagstructuur – niet op de wanden van de kamer. Dit zorgt voor een uniforme temperatuur op niveau van de wafer, met een variatie van maximaal ±0,1°C binnen de verhittingszone. De stabiliteit van de temperatuur is zelfs beter dan ±0,2°C onder belasting. De herhaalbaarheid van de temperatuur blijft onder 0,3°C, zodat de parameters van het verhittingproces consistent blijven.
Het verwarmingssysteem is geschikt voor gebruik in een schone ruimte: er worden materialen gebruikt die weinig gassen afgeven, de verbindingen zijn afgesloten en het externe oppervlak kan gemakkelijk worden schoongemaakt, zodat er geen vervuiling achterblijft. De output wordt geregeld door solid-state relais, met continu monitoring. Elke eenheid komt standaard met een kalibratiecurve.
Waarom het systeem in de productie werkt: Bij het verwerken van fotoresist is het belangrijk om de temperatuur nauwkeurig onder controle te houden. Onze infraroodverwarmers zorgen ervoor dat de wafer snel op temperatuur komt, terwijl de temperatuur stabiel blijft. Hierdoor wordt de verhittingsprocedure verkort, terwijl de kwaliteit van de fotoresist behouden blijft. Het ontwerp zorgt er ook voor dat er nauwelijks deeltjes worden gegenereerd, zodat er geen nadelen zijn voor de productiekwaliteit.
De warmte gaat waar het nodig is, en niet de lucht rondom. Hierdoor wordt energieverbruik verminderd. In de praktijk werkt het systeem 24/7, zonder onplanmatige stilstand door problemen met de warmtebeheersing. Het maintenanceproces is daardoor voorspelbaarder.
Wat je moet overwegen: Voor de installatie moet de interface van de ovencontroller worden aangepast aan die van de verwarmingsunit. Verder moet de spanning en stroomsterkte worden gecontroleerd in relatie tot de bestaande voedingsbronnen. Er is een korte tijd nodig om de PID-regeling af te stemmen op de massa en de thermische last van de wafer.
Deze verwarmers zijn gevoelig voor schommelingen in de netspanning. Zorg ervoor dat de spanning constant blijft, zodat er geen storingen optreden. Plan ook regelmatig controles in, op basis van de aantal gebruikuur, zodat de uniformiteit van de temperatuur behouden blijft.