Di fasiliti pengeluaran, sebaik sahaja wafer keluar dari proses pencucian terakhir, masa mula berjalan. Sebarang kelewatan dalam proses pengeringan akan menyebabkan masalah seperti keretakan pada permukaan wafer, pembentukan benjolan di tepi wafer, serta kehadiran zarah-zarah yang boleh mempengaruhi kualiti wafer semasa proses litografi dan etching. Lampu pengeringan wafer yang kami sediakan direka untuk menghapuskan faktor-faktor yang boleh menjejaskan kualiti wafer. Ia memastikan kawalan suhu yang konsisten sepanjang proses pengeringan, sehingga profil fotoresist tetap stabil dari satu shift ke shift yang lain.
Apa yang penting sebenarnya adalah penggunaan sumber inframerah gelombang pendek dan sederhana yang terletak di dalam kelopak kuarza, agar ia sesuai dengan cara air dan bahan pelarut fotoresist menyerap tenaga. Keseragaman suhu pada permukaan wafer mencapai ±0.1°C, dan suhu tersebut kekal stabil sepanjang proses pengeringan. Kelas bilik bersih 1–100 bukanlah ciri tambahan; ia merupakan sebahagian daripada reka bentuk lampu tersebut, dengan penggunaan bahan yang mengurangkan pelepasan gas, serta sistem pengudaraan yang efektif untuk mengurangkan kehadiran zarah-zarah. Prestasi lampu ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%. Proses kalibrasi yang terintegrasi serta sistem pengawalan PLC memastikan setiap proses pengeringan berlangsung dalam batasan suhu yang ditetapkan. Reka bentuk lampu dan reflektor pula membantu mengurangkan penggunaan tenaga.
Anda memerlukan sistem pengeringan yang dapat mengekalkan standard yang ditetapkan, tanpa perlu memantau setiap perubahan suhu secara berterusan. Lampu ini memastikan proses pengeringan berlangsung dengan cepat dan konsisten, dari wafer ke wafer, dari satu batch ke batch yang lain, dan dari hari ke hari. Dengan cara ini, ketebalan lapisan fotoresist menjadi lebih dapat diramal, kecacatan berkurangan, dan keperluan untuk melakukan proses pembaikan juga berkurangan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat dan mengekalkannya secara konsisten, tanpa adanya peningkatan suhu yang berlebihan.
Untuk memadankan keluaran lampu dengan keperluan substrat dan persekitaran pengeluaran, faktor-faktor seperti kepadatan tenaga, respons spektrum, dan geometri pemasangan sangat penting. Sistem ini direka berdasarkan diameter wafer, masa pengeringan, dan kelas bilik bersih. Kami juga menyediakan antaramuka untuk sistem PLC dan sistem keselamatan. Proses pemanasan dan penyejukan dilakukan secara terkawal, supaya tidak merosakkan lampu atau wafer. Pastikan sistem pengudaraan dan penyejukan sesuai dengan keperluan lampu tersebut. Jika integrasinya dilakukan dengan baik, unit ini dapat beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang tetap dan waktu henti yang minimum.