Di fasiliti pengeluaran, lini CSP pada tahap wafer tidak boleh mengalami perubahan suhu semasa proses pemrosesan bahan fotoresist atau proses pengeringan. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pengeringan boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting wafer. Selain itu, kelembapan yang masih ada setelah proses pembersihan juga boleh menjejaskan kualiti hasil pengeluaran. Itulah sebabnya kami menggunakan pemanas inframerah untuk proses-proses ini—di mana kawalan suhu sangat penting.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan gelombang inframerah pendek untuk memanaskan wafer dengan cepat, tanpa sentuhan langsung, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C. Penggunaan emitor kuarsa-halogen membolehkan tenaga disalurkan secara langsung ke bahan fotoresist dan substrat, sehingga kelewatan suhu dapat diminimumkan. Anda boleh menetapkan suhu yang diinginkan, dan sensor yang digunakan akan memastikan suhu tetap stabil sepanjang proses pengeluaran. Dengan cara ini, ketebalan lapisan bahan dan sisa-sisa yang tertinggal akan tetap berada dalam spesifikasi yang ditetapkan.
Pemanas ini direka khusus untuk bilik bersih kelas 1–100: tiada pembentukan zarah, bahan yang digunakan mempunyai kadar pelepasan gas yang rendah, dan permukaannya licin sehingga mudah dibersihkan. Pemanas ini beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang tetap, jadi masa henti yang tidak dirancang tidak akan menjadi masalah.
Mengapa ia sesuai untuk proses pengeluaran
Pemanas ini dapat menyelesaikan masalah-masalah yang timbul semasa proses pengeringan wafer, pemrosesan bahan fotoresist, dan langkah-langkah pengerasan seterusnya. Proses pemanasan yang cepat memendekkan masa proses tanpa menyebabkan masalah, manakala kestabilan suhu pula membantu mengurangkan variasi dalam proses peleburan bahan fotoresist.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana emitor hanya dihidupkan apabila diperlukan, dan jisim haba yang digunakan juga rendah. Hasilnya, ketebalan lapisan bahan akan tetap konsisten, kecacatan akibat pembersihan akan berkurangan, dan proses pengeluaran dapat berjalan lancar walaupun dalam jumlah yang besar. Kelebihannya adalah kadar hasil pengeluaran yang lebih tinggi dan kurangnya bahan buangan—semua ini berkait rapat dengan kawalan suhu yang efektif.
Apa yang perlu anda ketahui
Proses pemasangan pemanas ini memerlukan penyesuaian antara antaramuka alat yang digunakan: corak pemasangan OEM, jenis konektor, dan voltan perlu disesuaikan dengan platform yang digunakan. Pemanas ini akan berfungsi dengan lebih baik jika laluan cahaya bebas halangan dan permukaan yang digunakan bersifat reflektif—jika tidak, akan timbul titik-titik panas.
Anda perlu melakukan kalibrasi pirometer secara rutin dan mematuhi jadual penggantian emitor. Dengan cara ini, ketepatan suhu sekitar ±0.1°C dapat dikekalkan, dan proses pengeluaran akan tetap terkawal.