Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 0.2°C semasa proses pemanasan bukanlah perkara yang boleh diabaikan – ia akan memberi kesan negatif terhadap kualiti produk. Fotoresisten jenis DUV akan mengekalkan dimensi pentingnya dalam beberapa minit pertama proses pemanasan. Langkah pemanasan ini juga bertujuan untuk mengawal penghapusan bahan pelarut, tekanan pada lapisan fotoresisten, serta masalah yang berkaitan dengan tepi lapisan tersebut. Jika keseragaman suhu tidak tercapai, ia akan menyebabkan masalah seperti garisan-garisan tidak rata pada permukaan lapisan fotoresisten, serta perubahan ketara pada nilai CD, yang akhirnya akan merosakkan keseluruhan batch produk.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan lampu pemanasan jenis DUV yang menggunakan haba inframerah dekat (NIR). Medan haba yang dihasilkan sangat seragam, sehingga ke tahap sub-milimeter. Repeatabiliti proses pemanasan ini sangat tinggi, dan ia sesuai digunakan untuk wafer berukuran 300 mm. Zon pemanasan ini memastikan suhu tetap stabil, sekaligus melindungi lapisan fotoresisten daripada kerosakan. Sistem ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan dan komponen yang dipilih agar tidak ada zarah-zarah yang terbentuk semasa proses pemanasan.
Mengapa kaedah ini efektif dalam proses pengeluaran
Dalam fasiliti pengeluaran, kita memerlukan proses pemanasan yang konsisten dari satu syif ke syif yang lain, dan dari satu batch ke batch yang lain. Lampu pemanasan ini memastikan proses pemanasan berjalan secara konsisten sepanjang masa, tanpa gangguan. Ini seterusnya membantu mengurangkan keperluan untuk melakukan pembaikan, memastikan keseragaman CD yang stabil, serta memudahkan proses pengeringan bahan pelarut pada permukaan wafer. Tidak perlu lagi menyesuaikan tetapan oven atau memulakan semula proses pemanasan selepas penyelenggaraan.
Butiran praktikal yang perlu diperhatikan
Proses pemanasan menggunakan NIR adalah cepat dan efisien, tetapi ia memerlukan penyesuaian optik yang tepat serta persekitaran yang terkawal. Lampu pemanasan perlu disesuaikan dengan jenis fotoresisten yang digunakan serta keadaan permukaan belakang wafer. Jika tidak, perbezaan reflektiviti boleh menyebabkan masalah pada permukaan wafer. Lakukan ujian pemanasan singkat dengan fotoresisten yang digunakan, kemudian tetapkan tetapan yang sesuai. Setelah itu, proses pemanasan akan berjalan dengan lancar, dan sistem litografi anda akan memiliki stabilitas termal yang dapat diharapkan.