리소그래피 공정에서는 포토레지스트를 가열할 때 단 0.5도만의 온도 변동도 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 이로 인해 많은 웨이퍼가 폐기되고 맙니다. 클래스 1–100 등급의 청정실에서는 히터가 입자를 방출하지 않으면서도 일정한 온도를 유지해야 합니다. 저희는 이러한 요구사항을 충족시키기 위해 청정실용 오븐에 내장된 적외선 히터를 설계했습니다. 이 히터는 단순한 추가 장치가 아니라, 공정의 핵심적인 역할을 하는 장치입니다.
기술적으로 중요한 점들 저희는 반응 속도가 빠르고 스펙트럼 제어가 정밀한 단파 적외선 소자를 사용합니다. 그 덕분에 웨이퍼와 그 운반체가 직접 열을 받게 되며, 챔버 벽면이 열을 받지 않습니다. 이로 인해 가열 구역 전체에서 웨이퍼의 온도가 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지됩니다. 부하가 걸릴 때도 설정 온도의 안정성은 ±0.2°C 이하입니다. 연속된 작동 시에도 온도의 반복성은 0.3°C 이하로 유지되므로, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서의 온도가 일정하게 유지됩니다.
히터 패키지는 청정실 환경에 적합하도록 설계되었습니다. 발열이 적은 재료를 사용하고, 접합부도 밀폐되어 있으며, 외부 표면도 오염물질이 묻지 않도록 처리되어 있습니다. 출력은 순간적인 변동 없이 일정하게 유지되며, 각 장비에는 추적 가능한 교정 곡선도 함께 제공됩니다.
생산 환경에서의 성능 포토레지스트 처리 과정에서는 온도 조절이 매우 중요합니다. 저희의 적외선 히터는 웨이퍼의 온도를 빠르게 올린 후, 그 온도를 일정하게 유지해줍니다. 이를 통해 가열 시간을 단축하면서도 포토레지스트의 품질을 보호할 수 있습니다. 또한, 입자 생성을 최소화하여 생산성 저하를 막습니다.
열은 필요한 곳으로만 전달되므로 에너지 소비도 줄어듭니다. 실제 생산 환경에서는 이 시스템이 24/7 작동할 수 있으며, 열 관련 문제로 인한 정지 시간도 거의 없습니다. 또한, 유지보수도 예측 가능하게 이루어집니다.
계획해야 할 사항들 설치 시에는 오븐 컨트롤러 인터페이스와 호환되는지 확인하고, 기존의 전원 공급 장치와의 전압 및 전류 값을 확인해야 합니다. PID 루프를 조정하기 위해서는 비교적 짧은 시간이 필요합니다.
이 히터들은 전압의 안정성에 민감하므로, 전압 변동을 방지하기 위해 전원 공급 장치를 잘 조절해야 합니다. 또한, 히터의 상태를 정기적으로 점검해야 하며, 점검 시간은 일정한 작동 시간을 기준으로 해야 합니다. 이를 통해 공정에 필요한 온도를 일정하게 유지할 수 있습니다.