Die Wafer-Temperaturen genau erfassen – ohne Raten Wenn Sie versuchen, eine „intelligente Fertigungseinrichtung“ zu bauen, haben Sie vermutlich...

Die richtige Wahl des Reflektors für die Aushärtung von Wafern Wenn man Wafer in einer Halbleiterfabrik aushärtet, geht es dabei um das Umgang mit...

Wie man die Wafer wirklich sauber trocknet Beim Trocknen von MEMS-Sensorwafern ist Wärme zwar wichtig – doch sie ist nur die halbe Miete. Das...

Einführung Die Oxidationsprozesse bei Wafern finden in einer extremen Umgebung statt. Man benötigt eine Heizelemente, die dem hohen Temperaturstress...

In der Fertigungsstätte ist eine gereinigte Wafer nur dann wirklich sauber, wenn auch die Endtrocknungsphase einwandfrei abläuft. Wasserreste,...

In der Produktionsstätte beginnt die Zeit bereits in dem Moment, in dem das Wafer aus dem Endreinigungsprozess kommt. Jede Verzögerung beim Trocknen...

Auf der Produktionslinie befindet sich eine 150-mm-Saphirwafer, die darauf wartet, dem Fotolackprozess zugeführt zu werden. Hier gilt: Schon eine...

Auf der Produktionsfläche ist es so: Eine Abweichung der Backtemperatur um 0,5 °C kann dazu führen, dass kritische Abmessungen um Nanometer verändert...

In der Fertigungshalle kann eine CSP-Anlage auf Waferebene es sich nicht leisten, dass es während des Fotopolymervorgangs oder des...

Auf der Waferfläche ist das Backen von Photoresist keine Diskussion—es ist Ertrag, ganz einfach. Eine Drift von einem halben Grad im Soft-Bake oder...