製造現場では、ウェーハレベルのCSP工程においては、フォトレジストの処理や乾燥の過程で温度が変動してはなりません。ソフトベイクやハードベイク時に1℃の温度変動があるだけでも、ウェーハの寸法に影響を与えます。また、洗浄後に残った水分も歩留まりを低下させます。そのため、こうした工程には赤外線ヒーターが必要です。ここでは、温度管理が不可欠なのです。
技術的に重要な点 私たちは短波長の赤外線を使用し、ウェーハに迅速かつ非接触で熱を与えます。石英・ハロゲン式のエミッターアレイによって、エネルギーが直接フォトレジストや基板に伝わるため、熱遅れが少なく、均一な加熱が実現されます。温度を設定すれば、閉ループセンサーがその温度を一貫して維持し、線幅や残留物も規格内に保たれます。
このヒーターはクリーンルームのクラス1～100に適しています。粒子の発生がない上、ガス放出量が少なく、表面も滑らかで、簡単に洗浄できます。24時間365日稼働し、メンテナンスも計画的に行えるため、予期しない停止による問題もありません。
なぜこのヒーターが適しているのか このヒーターは、ウェーハの乾燥やフォトレジストのソフトベイク、そしてその後の硬化工程における問題を解決します。迅速な温度上昇によりサイクルタイムが短縮され、安定した温度制御によりフォトレジストの流動性や端部分の問題も減少します。エミッターが必要な時だけ作動するため、エネルギー消費も少なくなります。その結果、均一な膜厚が得られ、洗浄後の不良も減少し、大量生産にも対応できます。つまり、温度制御がしっかりしているため、初回の歩留まりが向上し、廃棄物も減少します。
知っておくべきこと 設置にあたっては、OEMの取り付け方法やコネクタの種類、電圧などが自社のプラットフォームに合致している必要があります。また、視界が遮られず、反射面が適切に管理されている場合に最も効果的です。そうでないと、熱の集中が起こります。
定期的なピロメーターの校正やエミッターの交換を行うことが重要です。そうすれば、±0.1℃の均一性を維持し、工程をコントロールできます。