در خط تولید، پردازش ویفر، کیفیت آن تنها به میزان خشک شدن نهایی آن بستگی دارد. لکههای ناشی از آب، ذرات ریز و مشکلات مربوط به چسبندگی فوتورزیست، همگی ناشی از الگوهای حرارتی نامنظم یا آلودهکننده هستند. پس از شستشو، دیگر جایی برای حدس و گمان وجود ندارد.
چه چیزهایی از نظر فنی اهمیت دارد؟ ما فرآیند خشک کردن را بر اساس انتقال حرارت کنترلشده طراحی کردهایم. سیستمهای ما بر اساس تکنولوژی NIR، یکنواختی حرارتی در سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میکنند؛ بنابراین تبخیر در سراسر سطح ویفر یکنواخت خواهد بود. سازگاری با محیطهای استریل نیز در این سیستمها وجود دارد؛ یعنی در محیطهای کلاس ۱ تا ۱۰۰، هیچ ذرهای تولید نمیشود و مسیرهای حرارتی نیز بسته هستند. در نتیجه، حذف باقیماندههای روی سطح ویفر به صورت قابل تکرار انجام میشود، بدون اینکه به ساختار ویفر آسیبی وارد شود.
چرا این روش در عمل مؤثر است؟ پس از شستشو، ویفر باید با سطحی کاملاً تمیز و خشک برای فرآیندهای لیتوگرافی یا فوتورزیست استفاده شود. این روش باعث میشود فرآیندهای حیاتی درست انجام شوند؛ دماهای لازم برای فرآیندهای خشک کردن در محدوده مشخصی باقی میمانند، کنترل عرض خطوط نیز دقیق است و نرخ نقصها کاهش مییابد. این سیستم ۲۴/۷ کار میکند و هیچ توقف غیرمنتظرهای ندارد؛ همچنین میزان مصرف انرژی نیز قابل پیشبینی است؛ بنابراین هزینههای حرارتی کنترل شده و زمان انجام فرآیندها نیز کوتاه میشود.
چه چیزهایی باید در نظر گرفته شود؟ فرآیند خشک کردن با تکنولوژی NIR سریع و تمیز است، اما نیاز به هماهنگی دقیق در خط دید و همچنین جیومتری پایدار سطح ویفر دارد. سیستمهای موجود نیاز به یک رابط تنظیمشده برای هماهنگی موقعیت ویفر و جمعآوری گازهای تولید شده دارند. باید به زمان کوتاهی برای یکپارچهسازی سیستم و انجام آزمایشاتی برای بررسی تعداد ذرات و الگوهای حرارتی توجه کرد. اگر این دو مورد درست انجام شوند، فرآیند خشک کردن دیگر یک ریسک نخواهد بود؛ بلکه به یک فرآیند قابل کنترل تبدیل خواهد شد.