במחלקת הייצור, רמת הניקיון של הוופר תלויה בעיקר בשלב הייבוש הסופי. סימני מים, חלקיקים זעירים ובעיות בהידבקות הפוטורזיסט נובעים כולם מפרופילים תרמיים לא אחידים או מזהמים. לאחר הניקוי, אין מקום להערכות שרירותיות.
מה חשוב מבחינה טכנית אנו מבצעים את שלב הייבוש באמצעות שליטה מדויקת בטמפרטורה. מערכות ה-NIR שלנו מאפשרות שמירה על אחידות תרמית של ±0.1°C ברמת הוופר, כך שהאידוי יהיה אחיד על כל שטח הוופר. המערכות מתאימות לסביבות נקיות מסוג Class 1–100 – ללא יצירת חלקיקים, ועם מסלולי חום סגורים. התוצאה היא הסרה אמינה של שאריות מתחת לרמה של מונוספרוס, מבלי לפגוע בוופר.
למה זה עובד בפועל לאחר הניקוי, הוופר חייב להיות נקי ויבש לפני שניתן להמשיך עם תהליכי הליתוגרפיה או עיבוד הפוטורזיסט. גישה זו שומרת על התנאים הקריטיים של התהליך: טמפרטורות האידוי נשארות בטווח המותר, שליטה ברוחב הקווים נשארת יציבה, ושיעור הפגמים יורד. המערכת פועלת 24/7 ללא הפסקות בלתי צפויות, וצריכת האנרגיה נשארת צפויה – מה שמאפשר שליטה טובה בתהליך.
מה צריך לזכור ייבוש באמצעות NIR הוא מהיר ונקי, אך הוא דורש תיאום מדויק של קוי הראייה וגאומטריה יציבה של הוופר. יש צורך בממשק מדויק כדי לאפשר תזוזה מדויקת של הוופר. יש לתכנן זמן אינטגרציה קצר, ובדיקות שמתמקדות במספר החלקיקים ובפרופיל הטמפרטורה.
אם נשלוט נכון בשני הגורמים האלו, שלב הייבוש כבר לא יהווה סיכון. הוא יהפוך לתהליך שניתן לשלוט בו באופן אמין.