Wafer on Warm IR Gold Coating Heaters

Cảm biến nhiệt độ dành cho công cụ xử lý wafer

Wed, 29 Jul 2026 03:57:19 +0800

Tại sao chúng ta sử dụng phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại cho các công cụ xử lý wafer?
Nếu bạn đang làm việc trong môi trường yêu cầu tuân thủ các tiêu chuẩn không chứa chì hoặc thân thiện với môi trường, bạn chắc hẳn hiểu rõ áp lực mà mình phải đối mặt. Bạn không thể chỉ cố gắng đáp ứng các yêu cầu một cách tạm bợ; bạn phải đáp ứng chúng một cách hoàn hảo. Đó chính là lý do tại sao chúng ta sử dụng phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Sun, 26 Jul 2026 13:58:30 +0800

Đảm bảo nhiệt độ của wafer ở mức chính xác (không cần phải đoán mò)
Nếu bạn muốn xây dựng một nhà máy sản xuất chip thông minh, chắc hẳn bạn đã nhận ra rằng việc lấy mẫu thủ công thật sự là một công việc vô cùng khó khăn. Việc này diễn ra chậm chạp, phiền phức, và thực tế thì nó không giúp bạn biết được chuyện gì đang xảy ra ngay lúc đó.

Bộ phản quang cho đèn sấy wafer

Thu, 16 Jul 2026 01:28:34 +0800

Lựa chọn bộ phản xạ phù hợp để xử lý các tấm wafer
Khi xử lý các tấm wafer trong nhà máy sản xuất chất bán dẫn, bạn đang tham gia vào một “trò chơi nguy hiểm” liên quan đến nhiệt độ. Chỉ cần một sai sót nhỏ thôi, bạn sẽ gặp phải tình trạng biến dạng của tấm wafer hoặc bị nhiễm chất hóa học.

Đó là lý do tại sao chúng ta sử dụng phương pháp xử lý bằng tia hồng ngoại. Phương pháp này giúp truyền năng lượng trực tiếp vào bề mặt tấm wafer. Không cần phải sử dụng không khí nóng hay các chất hóa học có hại. Phương pháp này vừa hiệu quả hơn, vừa ít gây ô nhiễm hơn; đồng thời cũng phù hợp với các tiêu chuẩn “xanh” mà chúng ta đang hướng tới, bằng cách loại bỏ chất thải.

Bộ sấy wafer cảm biến MEMS

Tue, 14 Jul 2026 11:47:25 +0800

Giữ cho các tấm wafer luôn sạch sẽ khi được sấy khô
Khi sấy khô các tấm wafer dùng trong cảm biến MEMS, nhiệt độ chỉ là một yếu tố quan trọng thôi. Vấn đề thực sự nằm ở việc các hạt bụi có thể gây ô nhiễm cho các tấm wafer này. Trong phòng sạch loại Class 100, một mảnh vụn nhỏ từ dây tóc cũ hoặc một chút keo bị thoát ra cũng có thể phá hủy toàn bộ lô sản phẩm trong chốc lát. Điều này thật phiền phức, tốn kém, và hoàn toàn có thể tránh được.

Thành phần gia nhiệt dùng để oxy hóa wafer

Sun, 05 Jul 2026 06:22:50 +0800

Giới thiệu
Quá trình oxi hóa wafer diễn ra trong môi trường cực kỳ khắc nghiệt. Bạn cần một bộ phận gia nhiệt có thể chịu được cái nóng liên tục, ngày này qua ngày khác, mà không hề suy giảm hiệu suất. Không được có sự dao động nào cả. Chúng tôi đã thiết kế những bộ phận gia nhiệt để hoạt động tốt trong môi trường như vậy. Chúng tôi sử dụng thạch anh chất lượng cao và wolfram có độ tinh khiết cao – những vật liệu mà bạn có thể tin tưởng hoàn toàn. Kết quả là chúng ta có được những bộ phận gia nhiệt có thể hoạt động ổn định, thay vì nhanh chóng hỏng hóc.

Làm thế nào để làm khô wafer sau khi vệ sinh

Sun, 28 Jun 2026 01:50:44 +0800

Trong quy trình sản xuất, mức độ sạch của wafer phụ thuộc hoàn toàn vào bước sấy cuối cùng. Các vết nước, các hạt vi mô, và những vấn đề liên quan đến khả năng bám dính của chất phủ ánh sáng đều xuất phát từ những sai lệch trong quy trình tạo nhiệt hoặc từ các yếu tố gây ô nhiễm. Sau khi rửa wafer, không còn chỗ cho sự suy đoán nào nữa.

Đèn sấy wafer bán sỉ

Fri, 26 Jun 2026 01:49:11 +0800

Trong quy trình sản xuất, ngay từ khoảnh khắc wafer được rửa sạch, thời gian bắt đầu tính toán ngay lập tức. Bất kỳ sự chậm trễ nào trong quá trình làm khô wafer cũng có thể dẫn đến hiện tượng méo hình dạng của wafer, xuất hiện các hạt bụi, và những yếu tố này sẽ tiếp tục ảnh hưởng đến quá trình in ấn và khắc trên wafer. Các thiết bị làm khô wafer của chúng tôi được thiết kế để loại bỏ những yếu tố gây biến động này. Chúng giúp kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác trong suốt quá trình làm khô, nhờ đó độ dày lớp phim quang học vẫn duy trì ở mức mong muốn, từ lần in này sang lần in khác.

Máy làm nóng dùng trong quy trình xử lý wafer sapphire

Tue, 23 Jun 2026 13:26:27 +0800

Trên dây chuyền sản xuất, có những tấm wafer pha lê sapphire kích thước 150 mm đang chờ được xử lý bằng phương pháp nung trong môi trường có chứa chất bảo vệ bề mặt wafer. Ở đây, chỉ cần sự thay đổi nhiệt độ khoảng nửa độ là đã có thể ảnh hưởng đến các kích thước quan trọng của wafer; một hạt bụi nhỏ cũng có thể khiến quy trình sản xuất bị gián đoạn. Do đó, bộ gia nhiệt phải được thiết kế sao cho phù hợp với điều kiện quy trình sản xuất – chứ không phải ép quy trình sản xuất phải phù hợp với bộ gia nhiệt.

Máy sưởi bằng tia hồng ngoại tần số trung bình dùng cho wafer

Mon, 22 Jun 2026 19:30:31 +0800

Trong quy trình xử lý phim quang học, bạn biết đấy, chỉ cần nhiệt độ sấy thay đổi 0,5°C thôi cũng có thể khiến các kích thước quan trọng của sản phẩm thay đổi vài nanomet, từ đó làm mất đi hàng giờ lao động trong quá trình sản xuất. Các bộ sưởi bằng sóng hồng ngoại tầm trung được thiết kế để ngăn chặn sự thay đổi nhiệt độ này.

Bộ sưởi ở cấp độ wafer của CSP (Chip Scale Package)

Wed, 17 Jun 2026 11:51:57 +0800

Trong môi trường sản xuất, dây chuyền xử lý wafer ở cấp độ wafer không thể chịu được sự thay đổi nhiệt độ trong quá trình xử lý hoặc sấy khô phim quang học. Chỉ cần nhiệt độ tăng 1°C trong quá trình sấy, kích thước của wafer cũng sẽ thay đổi. Ngoài ra, hơi ẩm còn sót lại sau quá trình làm sạch cũng sẽ ảnh hưởng đến chất lượng sản phẩm. Đó là lý do tại sao chúng tôi thiết kế bộ sưởi bằng tia hồng ngoại cho các công đoạn này – nơi mà việc kiểm soát nhiệt độ là điều cực kỳ quan trọng.