<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(DUV) on Warm IR Gold Coating Heaters</title>
		<link>http://warm-ir-gold-heater.com/tr/tags/duv/</link>
		<description>Recent content in (DUV) on Warm IR Gold Coating Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 01:46:16 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-gold-heater.com/tr/tags/duv/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Derin UV (DUV) direnç fırınlaması lambası</title>
				<link>http://warm-ir-gold-heater.com/tr/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:46:16 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-gold-heater.com/tr/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-gold-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Derin UV (DUV) direnç fırınlaması lambası&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Litografide, yumuşak fırınlama sırasında meydana gelen 0,2°C’lik bir sapma göz ardı edilebilecek bir durum değildir; bu durum üretim verimliliğini olumsuz etkiler. DUV fotoresistleri, termal işlemlerin ilk dakikalarında kritik boyutlarını korur ve fırınlama adımı ise çözücünün uzaklaştırılmasını, filmin gerilimini ve kenar bölgelerindeki sorunları kontrol eder. Termal düzenlilik bozulduğunda, yapısal bozukluklar, lekeler ve CD değerlerinde sapmalar meydana gelir; bu da tüm ürün partilerinin boşa gitmesine neden olabilir.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Peki, asıl önemli olan nedir?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Biz, yakın kızılötesi ısıtma teknolojisi kullanan bir DUV fotoresist fırını kullanıyoruz. Termal alan, milimetre altı seviyelerde bile düzenli kalır ve tekrarlanabilirlik &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; seviyesinde sağlanır. Yansıtıcı şeklindeki ısı dağılımı, sadece ısıtıcının ölçümleriyle değil, waferin geometrisiyle de uyumlu hale getirilir. 300 mm’lik bir wafer üzerinde, fırınlama bölgesinde sıkı bir sıcaklık kontrolü sağlanır; böylece fotoresistin fırınlanma sıcaklığı belirlenen toleranslar içinde kalır ve film tabakasının termal dengesi korunmuş olur. Bu sistem, temiz oda sınıfı 1–100 için tasarlanmıştır ve parçacık oluşumunu sıfıra indirmek için uygun malzemeler ve contalar kullanılır.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
