Aquecedor para processamento de wafers de safira

Tue, 23 Jun 2026 13:26:25 +0800

Na linha de produção, temos uma placa de safira de 150 mm pronta para ser submetida ao processo de secagem do fotoresist. Aqui, sabe-se que mesmo uma variação de meio grau na temperatura já é suficiente para afetar as dimensões críticas da placa; além disso, uma única partícula pode estragar todo o processo. O aquecedor precisa se adaptar às condições do processo – não o contrário.

O que realmente importa por trás disso tudo Nós construímos esses aquecedores de placas de safira com elementos de quartzo halógeno de onda curta e uma estrutura com baixa massa térmica. Isso permite que a temperatura se estabilize em menos de um segundo, com uma uniformidade de ±0,1°C entre as diferentes partes da placa. Os pontos de ajuste, que vão de 80°C a 300°C, mantêm-se consistentes, com variações de ±0,5°C entre uma aplicação e outra. Assim, tanto o processo de secagem suave quanto o duro são realizados dentro dos parâmetros desejados. A área de aquecimento é compatível com ambientes de classe 1, com acabamentos e materiais que reduzem a presença de partículas e evitam a liberação de gases. A densidade de potência é adequada ao tamanho da placa e aos requisitos térmicos, e todo o sistema foi projetado para funcionar 24/7, sem interrupções inesperadas.

Safira on Warm IR Gold Coating Heaters

Aquecedor para processamento de wafers de safira