Aquecedor infravermelho para fornos em salas limpas

Mon, 29 Jun 2026 03:14:37 +0800

Na área de litografia, uma variação de meio grau durante o processo de endurecimento do fotoresist é suficiente para causar desvios nas dimensões críticas dos wafers, resultando na perda de muitos deles. Em uma sala limpa de classe 1–100, o aquecedor precisa fornecer uma temperatura consistente, sem gerar partículas ou causar flutuações na temperatura. Por isso, construímos nossos aquecedores infravermelhos para atuar como elemento central nesse processo, e não como um complemento.

O que é importante do ponto de vista técnico Utilizamos elementos infravermelhos de onda curta, com resposta rápida e controle espectral preciso. Dessa forma, o calor reaches diretamente o wafer e o suporte em que ele está fixado, e não as paredes da câmara. Isso garante uma uniformidade na temperatura do wafer de até ±0,1°C ao longo da zona de tratamento, além de uma estabilidade da temperatura superior a ±0,2°C sob carga. A repetibilidade da temperatura entre diferentes ciclos de tratamento fica abaixo de 0,3°C, garantindo que os parâmetros de tratamento permaneçam constantes.

Forno on Warm IR Gold Coating Heaters

Aquecedor infravermelho para fornos em salas limpas