Hogelijk zuiver kwartsverwarmingselement

Fri, 03 Jul 2026 03:46:40 +0800

Op de productiehal is het verhitten van de fotorezist geen simpel thermisch proces. Het gaat om een kwestie van nauwkeurigheid. Een verschil van 2°C tijdens het verhitten kan ertoe leiden dat belangrijke dimensies met enkele nanometers veranderen. Hierdoor moet je de wafers alweer weggooien, nog voordat de lithoscanner zelf een afwijking detecteert. De verwarmingselementen zijn dus cruciaal voor het behouden van de gewenste temperatuurniveaus.

Wat er echt toe doet We maken deze kwartsverwarmingselementen speciaal voor het regelen van de temperatuur in halfgeleiderapparatuur, en niet voor algemene verwarmingsdoeleinden. Het kwartsmateriaal zorgt er namelijk voor dat er weinig gassen vrijkomen en dat het materiaal bestand is tegen chemische invloeden, herhaaldelijk na elke behandeling. We streven ernaar om een uniformiteit van ±0,1°C te behouden over het hele oppervlak van de wafer. Hierdoor zal ieder gebied van de wafer dezelfde temperatuur hebben. De output blijft duizenden uren stabiel, zodat de procesrepetitie wordt gegarandeerd. De geometrie van de elementen past precies bij de vorm van de hitteplaat. De keuze van de elementen is gemaakt om een soepele integratie met de apparatuur mogelijk te maken en om langdurige mechanische stabiliteit te garanderen.

Zuiverheid on Warm IR Gold Coating Heaters

Hogelijk zuiver kwartsverwarmingselement