Wafel on Warm IR Gold Coating Heaters

Temperatuursensor voor wafergereedschap

Wed, 29 Jul 2026 03:57:24 +0800

Waarom we infrarode curing gebruiken voor waferbewerking
Als je werkt volgens regels die het gebruik van loodvrije materialen of milieuvriendelijke methoden vereisen, weet je hoe belangrijk het is om aan deze eisen te voldoen. Je kunt niet zomaar ‘dicht in de buurt’ van de vereisten komen; je moet ze perfect nakomen. Hier komt infrarode curing om de hoek kijken.

Stel je eens voor dat je een gewone convectieoven gebruikt: deze verwarmt de hele ruimte alleen maar om één plaat op te warmen. Dat is verspilling. Infraroodlampen zijn anders: ze richten de energie rechtstreeks op het oppervlak van de wafer. Het is efficiënt en snel.

Precisie IR sensor voor wafer

Sun, 26 Jul 2026 13:58:36 +0800

Hoe je de temperatuur van je wafer goed kunt controleren (zonder te gokken)
Als je een “Smart Fab” wilt bouwen, weet je vast al dat handmatig monsters nemen een nachtmerrie is. Het is traag, tijdrovend en levert niet de gewenste informatie op over wat er op dat moment echt gebeurt.

Daarom zijn hoogprecieze IR-sensors nodig. Ze maken het mogelijk om in miliseconden het thermische profiel van een 300mm-wafer te zien, zonder dat de ondergrond zelfs maar wordt aangeraakt. Dit is de enige manier om zulke hoge snelheden en nauwkeurigheid te bereiken.

Reflector voor wijze curinglamp

Thu, 16 Jul 2026 01:28:34 +0800

Het juiste reflector gebruik voor het drogen van wafers

Wanneer je wafers in een halfgeleiderfabriek droogt, speel je een gevaarlijk spel met hitte. Eén verkeerde beweging kan ertoe leiden dat de wafers vervormen of chemisch worden verontreinigd.

Daarom maken we gebruik van infraroodstraling voor het drogen. Hierdoor wordt de energie rechtstreeks naar het substraat gestuurd. Er is geen behoefte om te werken met hete lucht of schadelijke oplosmiddelen. Het is schoner en efficiënter. Bovendien voldoet dit aan de ‘groene’ standaarden die we allemaal nastreven, doordat er minder afval ontstaat.

Droogheater voor MEMS sensorwafer

Tue, 14 Jul 2026 11:47:25 +0800

Zorgen dat je wafer echt schoon blijft drogen

Wanneer je MEMS-sensorwafern droogt, is hitte nog maar de helft van het verhaal. Het echte probleem zijn de deeltjes die vrijkomen tijdens het drogen. In een klasse-100 schone ruimte kan één klein stukje oude draad of wat uitgaande lijm al een hele lading sensoren beschadigen. Dit is frustrerend, kostbaar en volledig te voorkomen.

Daarom gebruiken we IR-lampen gemaakt van zeer zuiver synthetisch kwarts. Deze lampen veroorzaken geen vervuiling.

Wafer oxidatieringsverwarmingselement

Sun, 05 Jul 2026 06:22:50 +0800

Inleiding

Oxidatie van waferen vindt plaats in een zeer extreme omgeving. Er is behoefte aan een verhittingselement dat de hoge temperaturen kan weerstaan – dag in, dag uit – zonder dat het het begint te begeven. Geen problemen, geen falen.
Daarom hebben we onze verhittingslampen ontworpen om in zulke omstandigheden te kunnen functioneren. We gebruiken hoogwaardig kwarts en zuiver tungsteen. Het zijn materialen die je kunt vertrouwen. Het resultaat? Een lamp die blijft werken, in plaats van al snel kapot te gaan.

Groothandelslamp voor het drogen van wafers

Fri, 26 Jun 2026 01:49:11 +0800

Op de productieafdeling begint de tijd te lopen zodra de wafer uit het eindreinigingsproces komt. Elke vertraging bij het drogen kan leiden tot problemen als oneffenheden op het oppervlak van de wafer en het ontstaan van deeltjes die vervolgens mee gaan naar de lithografische en etapprocessen. Onze lampen voor het drogen van wafers zijn zo ontworpen dat deze variabiliteit wordt weggenomen. Ze zorgen voor een constante temperatuur, zodat het profiel van de fotoresist altijd binnen de vereiste parameters blijft, shift na shift.

Verhitter voor het bewerken van sapphire wafers

Tue, 23 Jun 2026 13:26:26 +0800

Op de productielijn ligt een sappierwafel van 150 mm klaar om te worden verwerkt met behulp van fotoresistent. Hier geldt dat zelfs een temperatuurschommeling van een halve graad al voldoende is om de kritieke afmetingen van de wafel te beïnvloeden. Bovendien kan één enkel deeltje al tot problemen leiden. De heater moet dus perfect aansluiten bij de vereisten van het proces – niet andersom.

Wat er echt toe doet We bouwen deze heaters rondom korte-golflengtehalogeenkwarts-elementen en een constructie met lage thermische massa. Hierdoor wordt de temperatuur in minder dan een seconde geregeld, waardoor de uniformiteit van de temperatuur op het oppervlak van de wafel op ±0,1°C blijft. De instellingen van 80°C tot 300°C blijven binnen ±0,5°C consistent, zodat zowel het zachte als het harde bakproces volgens de specificaties verloopt. De hete zone is geschikt voor gebruik in een schone ruimte van klasse 1; de materialen die worden gebruikt, helpen om het aantal deeltjes minimaal te houden en voorkomen dat er gas vrijkomt. De vermogensdichtheid wordt aangepast aan de grootte van de wafel en de thermische eisen. Het geheel is zo ontworpen dat het 24/7 betrouwbaar kan werken, zonder onverwachte stilstand.

Middengolf infraroodverwarmer voor wafer

Mon, 22 Jun 2026 19:30:31 +0800

Op de productieafdeling is het zo dat een verschil van 0,5°C in de baktemperatuur tot nanometerprecisie kan zorgen voor veranderingen in de belangrijkste afmetingen van het product. Dit kan urenlang werk aan lithografie tenietdoen. Middengolf-Infraroodverwarmers zijn ontworpen om dit soort fouten te voorkomen.

Wat er echt toe doet Middengolf-Infraroodverwarmers leveren energie rechtstreeks af op de fotoresist en het substraat – snel en gestuurd. We houden de uniformiteit op het niveau van ±0,1°C binnen de bakzone, terwijl de stabilité van de temperatuur binnen ±0,2°C blijft, zelfs onder belasting. De emissiviteit is aangepast aan silicium en andere gebruikelijke materialen, zodat er geen overschotten optreden tijdens het zachte of harde bakken.

Waferniveau CSP (Chip Scale Package) verwarmer

Wed, 17 Jun 2026 11:51:57 +0800

In de productiehal kan een CSP-linie op waferniveau zich geen temperatuursschommelingen veroorloven tijdens het verwerken en drogen van de fotoresist. Een verschil van 1°C tijdens het ‘soft bake’- of ‘hard bake’-proces kan leiden tot afwijkingen in de belangrijkste dimensies van de wafer. Bovendien kan vocht dat nog rest na het reinigen de kwaliteit van de productie negatief beïnvloeden. Daarom hebben we een infraroodverwarmer ontworpen voor deze processtappen – waar een nauwkeurige temperatuurregeling absoluut noodzakelijk is.