<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dungun Memasak on Warm IR Gold Coating Heaters</title>
		<link>http://warm-ir-gold-heater.com/ms/tags/dungun-memasak/</link>
		<description>Recent content in Dungun Memasak on Warm IR Gold Coating Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 03:14:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-gold-heater.com/ms/tags/dungun-memasak/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk ketuhar bilik bersih</title>
				<link>http://warm-ir-gold-heater.com/ms/posts/clean-room-oven-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 03:14:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-gold-heater.com/ms/posts/clean-room-oven-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-gold-heater.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk ketuhar bilik bersih&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik bersih kelas 1–100, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengganggu dimensi kritikal wafer tersebut, sehingga menyebabkan banyak wafer menjadi rosak. Oleh itu, pemanas yang digunakan dalam bilik bersih ini perlu mampu memberikan suhu yang stabil, tanpa menghasilkan zarah-zarah berbahaya atau menyebabkan perubahan suhu yang tidak diinginkan. Kami telah mencipta pemanas inframerah yang sesuai untuk tujuan ini, bukan sekadar alat tambahan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;elemen&lt;/a&gt; inframerah berfrekuensi rendah yang mempunyai masa tindak balas yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Dengan cara ini, haba akan sampai terus ke wafer, bukan ke dinding bilik. Ini memastikan keseragaman suhu pada wafer pada tahap ±0.1°C di seluruh kawasan pemanasan, dan stabilitas suhu yang lebih baik, iaitu ±0.2°C ketika beban tinggi. Repeatabilitas suhu antara setiap kali pengoperasian juga kurang dari 0.3°C, jadi profil pemanasan tetap stabil.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
