ウェーハ on Warm IR Gold Coating Heaters

ウェーハ用高精度IRセンサー

Sun, 26 Jul 2026 13:58:28 +0800

ウェハの温度を正確に把握する方法（推測に頼らずに）「スマートファブ」を構築しようとしているなら、手作業によるサンプリングがどれほど非効率的かご存知でしょう。時間がかかり、面倒であり、実際に何が起こっているのかを把握することはできません。そこで役立つのが高精度のIRセンサーです。これにより、基板上に触れることなく、300mmウェハの熱分布を数ミリ秒以内に把握できます。このような高速かつ正確なデータ取得は、他に方法がありません。 実際の動作原理 このセンサーは、ウェハ表面から発せられる電磁波を検出します。技術者が手書きで記録する代わりに、生データが直接PLCやSCADAシステムに送信されます。ウェハ全体の温度均一性をリアルタイムで確認できます。もし高温部分が存在すれば、システムがそれを即座に検出し、加熱要素を調整します。もう、運に任せて成果を期待する必要はありません。 ハードウェアの連携 ファブが本当に「スマート」に機能するためには、各機器が互いに通信できる必要があります。私たちのIRシステムは、4-20mAやデジタルプロトコルといった標準的な信号を使用しているため、既存のデータインフラに簡単に接続できます。これにより、閉ループ制御が実現されます。単に画面で温度の変化を見るだけでなく、そのリアルタイムデータを利用して機械を操作できるのです。 現実的な課題 正直に言うと、高解像度のIRセンサーは、どんな工具にでも使える魔法の杖ではありません。このセンサーは、クリアな視界が必要です。チャンバ内に蒸気や汚れが溜まっていると、測定値が不正確になります。これは厄介ですが、物理法則によるものです。対策を講じる必要があります。光学経路のメンテナンスを徹底したり、レンズを常に清潔に保つための装置を設置したりする必要があります。窓が汚れていると、「スマートなデータ」は単なるノイズに過ぎません。少し手間がかかりますが、半導体製造において求められる精度を得るためには、それが必要です。

ウェーハ硬化ランプ用反射板

Thu, 16 Jul 2026 01:28:34 +0800

ウェーハの硬化処理において、適切な反射器を選ぶことが重要です。半導体製造工場でウェーハを硬化処理する際は、熱という危険な要素を扱っているのです。少しでも間違えると、ウェーハが変形したり、化学的な汚染が生じたりしてしまいます。

そのため、私たちは赤外線を利用した硬化処理を採用しています。赤外線はエネルギーを直接基板上に送り込むので、循環する熱風や有害な溶剤を使う必要がありません。これにより、よりクリーンで効率的な処理が可能になります。また、廃棄物を減らすという観点からも、「グリーン」な基準に合致しています。

MEMSセンサーワイヤー用乾燥ヒーター

Tue, 14 Jul 2026 11:47:25 +0800

ウェーハを本当にきれいに乾燥させるために
MEMSセンサーのウェーハを乾燥させるとき、熱だけでは不十分です。実際の問題は、微粒子が発生することです。クラス100の清浄室でも、古くなったフィラメントの破片や接着剤の分解物といった微小な粒子が、一瞬で大量のセンサーを破壊してしまいます。これは非常に厄介で、費用もかかりますが、避けられる問題です。

ウェーハ酸化用ヒーター

Sun, 05 Jul 2026 06:22:50 +0800

はじめに

ウェーハの酸化処理というのは、極めて過酷な環境です。日々、激しい熱に耐え続けることができる発熱体が必要です。絶対に故障してはいけません。
そこで私たちは、そのような環境で使える発熱体を開発しました。使用されているのは最高品質の石英と高純度のタングステンです。信頼できる素材です。その結果、この発熱体は途中で壊れることなく、ずっと稼働し続けます。

清掃後のウェーハの乾燥方法

Sun, 28 Jun 2026 01:50:43 +0800

製造現場において、洗浄されたウェーハの清潔度は、最終的な乾燥工程で決まります。水痕や微粒子、フォトレジストの付着問題は、不均一な加熱条件や汚染要因に起因しています。洗浄後は、もはや推測の余地はありません。

技術的に重要な点 私たちは、制御された熱供給に基づいて乾燥工程を構築しています。NIR技術を用いることで、ウェーハ全体の温度を±0.1℃の精度で一定に保つことができ、その結果、表面全体での蒸発が均一に行われます。クリーンルームとの互換性も確保されており、クラス1～100の環境下で、粒子の発生を防ぎ、密閉された熱伝達経路が実現されます。これにより、ウェーハへの負担をかけずに、再現性の高い残留物除去が可能になります。

卸売用ウェーハ乾燥ランプ

Fri, 26 Jun 2026 01:49:11 +0800

製造現場では、ウェーハが最終的な洗浄工程を終えた瞬間から、時間との戦いが始まります。乾燥に時間がかかってしまうと、ウェーハ上に凹みや粒状物が発生し、それらがそのままリソグラフィーやエッチング工程に影響を与えてしまいます。当社のウェーハ乾燥ランプは、このような不確実性を排除するために設計されています。乾燥や焼成が行われる場所で、再現性の高い温度制御が可能になり、その結果、シフトごとにフォトレジストの特性が一定に保たれます。

実際に重要なのは、石英製のケース内で短波および中波の赤外線が利用されている点です。これにより、水やフォトレジスト溶剤の吸収特性に合わせて温度が調整されます。ウェーハ全体の温度ムラは±0.1℃以内に抑えられ、ソフトベイクやハードベイクの際も温度が安定して保たれます。クリーンルームのクラス1～100に適応することは、単なる追加機能ではありません。低ガス放出性の材料や密閉型のケース、正圧の空気流を用いることで、粒子の発生を防ぎます。5,000時間以上使用しても出力は安定し、強度の変動は5％未満です。統合された校正機能やPLCのインターロックにより、各焼成工程が適切な温度範囲内で行われ、ランプと反射板の設計によりエネルギー消費も抑えられます。

ウェーハレベルCSP チップスケールパッケージヒーター

Wed, 17 Jun 2026 11:51:57 +0800

製造現場では、ウェーハレベルのCSP工程においては、フォトレジストの処理や乾燥の過程で温度が変動してはなりません。ソフトベイクやハードベイク時に1℃の温度変動があるだけでも、ウェーハの寸法に影響を与えます。また、洗浄後に残った水分も歩留まりを低下させます。そのため、こうした工程には赤外線ヒーターが必要です。ここでは、温度管理が不可欠なのです。