Sensore di temperatura per strumento a wafer

Wed, 29 Jul 2026 03:57:20 +0800

Perché utilizziamo la tecnologia di essiccazione a raggi infrarossi per gli strumenti utilizzati nella lavorazione dei wafer
Se lavorate nell’ambito di normative che impongono l’uso di materiali senza piombo o ecologicamente sostenibili, conoscete bene la pressione a cui si è sottoposti. Non è sufficiente cercare di soddisfare approssimativamente tali requisiti: bisogna farlo perfettamente. È qui che entra in gioco la tecnologia di essiccazione a raggi infrarossi.

Pensate a un forno tradizionale a convezione: riscalda l’intera stanza solo per riscaldare un singolo wafer. È uno spreco di energia. Le lampade a raggi infrarossi, invece, concentrano l’energia direttamente sulla superficie del wafer. È un processo diretto e veloce.

Portalampada a infrarossi per utensile wafer

Mon, 08 Jun 2026 02:56:51 +0800

Sulla linea di produzione dei wafer, la cottura del fotoresist non è un’opzione: è resa, semplice e chiaro. Una variazione di mezzo grado nel soft bake o hard bake si riflette nel controllo delle dimensioni critiche, e un picco di particelle può compromettere un intero lotto. Per questo la presa della lampada a infrarossi nel vostro strumento merita lo stesso rigore ingegneristico che riservate all’ottica e alla tavola.

Cosa conta sotto la superficie

Progettiamo la presa per lampade a infrarossi per strumenti wafer con l’obiettivo di fornire calore in modo ripetibile. La sorgente NIR è selezionata affinché l’energia si trasferisca rapidamente e direttamente in sistemi a base quarzo, coprendo profili a onda corta e media senza overshoot. L’uniformità termica nella zona di cottura mantiene una tolleranza di ±0.1°C, così il fotoresist riceve lo stesso bilancio termico, ciclo dopo ciclo.

```Python on Warm IR Gold Coating Heaters

Sensore di temperatura per strumento a wafer

Portalampada a infrarossi per utensile wafer

Cosa conta sotto la superficie