Riscaldatore per la lavorazione dei wafer di zaffiro

Tue, 23 Jun 2026 13:26:26 +0800

Sulla linea di produzione, c’è un wafer di zaffiro da 150 mm che attende di essere sottoposto al processo di cottura del fotorestatore. Qui, bisogna tenere conto del fatto che anche un cambiamento di temperatura di mezzo grado può influire negativamente sulle dimensioni critiche del wafer; inoltre, una singola particella può rovinare l’intero processo di produzione. Il riscaldatore deve quindi essere progettato in modo da adattarsi alle esigenze del processo, e non viceversa.

Cosa è davvero importante I riscaldatori per wafer di zaffiro sono realizzati utilizzando elementi a base di quarzo allogenico a onde corte, insieme a strutture con bassa massa termica. Questo permette una stabilizzazione della temperatura in tempi inferiori a un secondo, con una uniformità della temperatura pari a ±0,1°C. I valori di temperatura compresi tra 80°C e 300°C possono essere mantenuti stabili entro un margine di ±0,5°C, così da garantire che i processi di cottura del fotorestatore avvengano correttamente. La zona di riscaldamento è compatibile con ambienti di tipo “clean room” di classe 1: i materiali utilizzati riducono notevolmente la presenza di particelle e prevengono la fuoriuscita di gas. La densità di potenza è calibrata in base alle dimensioni del wafer e alle esigenze termiche del processo; inoltre, l’intero sistema è progettato per funzionare in modo affidabile 24/7, senza interruzioni.

Elaborazione on Warm IR Gold Coating Heaters

Riscaldatore per la lavorazione dei wafer di zaffiro