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		<title>Sec on Warm IR Gold Coating Heaters</title>
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				<title>Comment sécher la pastille après nettoyage</title>
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				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 01:50:42 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-gold-heater.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Comment sécher la pastille après nettoyage&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plan de production, une wafer nettoyée n’est aussi propre que son étape de séchage finale le permet. Les marques d’eau, les microparticules et les problèmes d’adhésion du photorésiste sont tous dus à des profils thermiques &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;incoh&lt;/a&gt;érents ou contaminants. Après le nettoyage, il n’y a plus de place pour l’imprécision.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est important techniquement&lt;/strong&gt;&#xA;Nous concevons l’étape de séchage en tenant compte d’une distribution contrôlée de la chaleur. Nos systèmes basés sur la technologie NIR garantissent une uniformité thermique de ±0,1°C à niveau de la wafer, ce qui permet une évaporation uniforme sur toute sa surface. La compatibilité avec les environnements de classe 1–100 est assurée : zéro génération de particules, chemins thermiques scellés. Le résultat est une élimination fiable des résidus sous-monomoléculaires, sans stress pour la wafer.&lt;/p&gt;</description>
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