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		<title>Saphir on Warm IR Gold Coating Heaters</title>
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		<description>Recent content in Saphir on Warm IR Gold Coating Heaters</description>
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				<title>Chauffage pour le traitement des wafer en saphir</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-gold-heater.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Chauffage pour le traitement des wafer en saphir&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne de production, on a une puce en saphir de 150 mm qui attend d’être soumise au processus de cuisson du photorésist. Ici, on connaît bien les règles : une déviation de température de demi-degré suffit pour modifier les dimensions critiques des composants, et une seule particule peut gâcher tout le processus. Le chauffage doit donc être adapté aux exigences du processus – et non l’inverse.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est vraiment important au niveau technique&lt;/strong&gt;&#xA;Nous concevons ces chauffages pour puce en saphir en utilisant des élé&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;ments&lt;/a&gt; à base de quartz halogène à ondes courtes, ainsi qu’une structure à faible masse thermique. Cela permet d’obtenir une stabilité de température en moins de une seconde, avec une homogénéité de ±0,1°C au niveau de la puce. Les valeurs de température, allant de 80°C à 300°C, restent stables, avec une variation de ±0,5°C d’un cycle à l’autre. Ainsi, les processus de cuisson peuvent être &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;effectu&lt;/a&gt;és conformément aux spécifications requises pour le photorésist. La zone chaude est compatible avec des environnements de classe 1, avec des finitions et des matériaux qui réduisent le nombre de particules présentes et empêchent toute émission de gaz. La densité d’énergie est adaptée à la taille de la puce et aux besoins thermiques ; tout est conçu pour fonctionner 24/7, sans interruption.&lt;/p&gt;</description>
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