Heizer für die Verarbeitung von Saphirwafern

Tue, 23 Jun 2026 13:26:26 +0800

Auf der Produktionslinie befindet sich eine 150-mm-Saphirwafer, die darauf wartet, dem Fotolackprozess zugeführt zu werden. Hier gilt: Schon eine Temperaturabweichung von einem Halbgrad reicht aus, um die kritischen Abmessungen zu verändern – und bereits ein einziger Staubpartikel kann den gesamten Prozess ruinieren. Der Heizer muss daher genau in das spezifische Temperaturprofil des Prozesses passen – nicht umgekehrt.

Was wirklich wichtig ist
Wir bauen diese Saphirwaferheizer mit Kurzwellenhalogenquarzelementen sowie einer Struktur mit geringer Wärmeleitfähigkeit. Dadurch wird eine Ausgleichszeit von unter einer Sekunde erreicht, wodurch eine Homogenität der Temperatur auf dem Wafer von ±0,1 °C gewährleistet wird. Die Einstellwerte zwischen 80 °C und 300 °C bleiben bei wiederholten Anwendungen innerhalb von ±0,5 °C konstant – dadurch bleiben sowohl der sanfte als auch der strenge Trocknungsvorgang im vorgegebenen Rahmen. Die Heizzone ist für Reinräume der Klasse 1 geeignet; die verwendeten Materialien sorgen außerdem dafür, dass die Staubkonzentrationen gering bleiben und keine Gase entweichen. Die Leistungsdichte wird an die Größe des Wafer sowie an die thermischen Anforderungen angepasst. Das ganze System ist so konzipiert, dass es 24/7 zuverlässig funktioniert – ohne unerwartete Ausfälle.

Saphir on Warm IR Gold Coating Heaters

Heizer für die Verarbeitung von Saphirwafern