Infrarotheizung für Ofen in Saalreinräumen

Mon, 29 Jun 2026 03:14:37 +0800

Auf der Lithografieebene reicht bereits eine Schwankung von einer halben Grad während des Trocknungsprozesses aus, um die kritischen Abmessungen der Wafer zu verfälschen – mit dem Ergebnis, dass viele Wafer unbrauchbar werden. In einem Reinraum der Klasse 1–100 muss der Heizer eine konstante Temperatur liefern, ohne dabei Partikel freizusetzen oder Schwankungen aufzutreten. Deshalb wurden unsere Infrarotheizer so konstruiert, dass sie als stabilisierender Faktor im Prozess wirken – und nicht nur als zusätzliches Element.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotelemente mit schneller Reaktion und präziser Spektralkontrolle. Dadurch wird die Wärme direkt an den Wafer weitergegeben – und nicht an die Wände des Behälters. Dadurch bleibt die Temperatur auf dem Wafer bei ±0,1 °C innerhalb der Trocknungsbereich konstant. Die Stabilität der Setpunkttemperatur liegt dabei bei besser als ±0,2 °C unter Belastung. Die Temperaturkonstanz zwischen verschiedenen Chargen beträgt weniger als 0,3 °C – somit bleiben die Parameter für den weichen und harten Trocknungsprozess konstant.

Ofen on Warm IR Gold Coating Heaters

Infrarotheizung für Ofen in Saalreinräumen