Op de lithografieafdeling is een temperatuurschommeling van 0,2°C tijdens het proces van ‘soft bake’ geen kleinigheid – het heeft gevolgen voor de kwaliteit van het product. De DUV-fotoresistent vastlegt zijn cruciale dimensies al in de eerste minuten na het thermische behandelen. Tijdens dit proces wordt ook het aantal opgeloste oplosmiddelen bepaald, evenals de spanningen in het laagje en de vorm van de randen. Als de thermische uniformiteit verstoord wordt, kunnen er problemen ontstaan als gebreken in de structuur van het product of afwijkingen in de dikte van het laagje. Dit kan ertoe leiden dat hele partijen producten onbruikbaar worden.
Wat er echt toe doet
Wij gebruiken een DUV-lamp die gebruikmaakt van near-infraroodstraling om het materiaal te verhitten. Hierdoor blijft de temperatuur uniform tot op submillimetersniveau. De herhalbaarheid is op het niveau van het individuele wafel. Het warmteprofiel past zich aan de geometrie van het wafel aan, en niet alleen aan de sensoren van de heater. Op een 300 mm groot wafel kan de temperatuur nauwkeurig worden geregeld, zodat de temperatuur van de fotoresistent binnen strikte toleranties blijft. Dit beschermt de thermische balans van het materiaallayer. Het systeem is ontworpen voor gebruik in schone ruimtes van klasse 1–100. De materialen en sluitingen zijn zo gekozen dat er geen deeltjes worden geproduceerd tijdens het verhitten.
Waarom dit werkt in de productie
In een fabriek is het belangrijk dat het proces elke keer opnieuw goed werkt, ongeacht of het om één shift of meerdere shifts gaat. Deze lamp zorgt ervoor dat de herhalbaarheid van het proces constant blijft, zelfs 24/7. Hierdoor wordt onverwachte stilstand verminderd. Het resultaat is minder herwerkingen, stabiele dikteverschillen in het materiaal en voorspelbare verdamping van oplosmiddelen. Er is dus geen behoefte om de instellingen van de oven te aanpassen of het proces opnieuw te kalibreren na onderhoud.
Praktische detailregels die je niet kunt negeren
Near-infraroodverwarming is snel en effectief, maar vereist precieze optische alignment en een gecontroleerde omgeving. De lamp moet worden aangepast aan de specifieke fotoresistentlaag en de condities van de achterkant van het wafel. Anders kunnen verschillen in reflectiviteit leiden tot fouten in het proces. Voer eerst een korte test uit met de huidige fotoresistent, en pas daarna de instellingen aan. Unaangezien alles goed is afgestemd, kan het proces betrouwbaar worden uitgevoerd.