Di lini litografi, perubahan suhu sebesar 0,2°C selama proses pemanasan bukanlah hal yang sepele—hal tersebut justru berdampak negatif pada kualitas produk yang dihasilkan. Photoresist tipe DUV akan mempertahankan dimensi-dimensinya yang kritis dalam beberapa menit pertama setelah proses pemanasan dimulai. Proses pemanasan ini juga berfungsi untuk mengontrol proses penghilangan pelarut, tekanan pada lapisan film, serta bentuk tepi-tepi lapisan film tersebut. Jika keseragaman suhu tidak terjaga, maka akan muncul masalah seperti adanya garis-garis tidak rata atau penyimpangan pada dimensi lapisan film, sehingga dapat merusak seluruh batch produk yang dihasilkan.
Apa yang penting dalam proses ini?
Kami menggunakan lampu pemanas tipe DUV yang memanfaatkan panas inframerah dekat (NIR). Medan termal yang dihasilkan tetap seragam hingga tingkat sub-milimeter, dan tingkat repetibilitasnya sangat tinggi. Pola panas yang dihasilkan sesuai dengan geometri wafer, bukan hanya berdasarkan data dari alat pemanas saja. Pada wafer berukuran 300 mm, zona pemanasan mampu menjaga suhu tetap stabil, sehingga suhu pemanasan photoresist tetap berada dalam rentang yang ditentukan. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan dan komponen-komponen yang dipilih agar tidak ada partikel yang terbentuk selama proses pemanasan.
Mengapa metode ini efektif dalam produksi?
Di pabrik pembuatan chip, diperlukan performa pemanasan yang konsisten dari satu shift ke shift lainnya, dan dari satu batch ke batch lainnya. Lampu pemanas ini memungkinkan proses pemanasan yang konsisten, bahkan saat operasi berlangsung 24/7. Dengan demikian, waktu henti produksi akibat masalah teknis dapat diminimalkan. Hasilnya adalah produk yang berkualitas tinggi, keseragaman dimensi lapisan film yang stabil, serta proses penguapan pelarut yang dapat diprediksi—tanpa perlu menyetel ulang parameter oven atau melakukan kalibrasi ulang setelah pemeliharaan.
Detail praktis yang perlu diperhatikan
Proses pemanasan menggunakan NIR memang cepat dan efisien, tetapi membutuhkan penyetelan optik yang tepat serta lingkungan yang terkendali. Lampu pemanas harus disesuaikan dengan jenis photoresist yang digunakan serta kondisi permukaan belakang wafer. Jika tidak, perbedaan reflektivitas dapat menyebabkan ketidakkonsistenan pada hasil pemanasan. Lakukanlah uji coba singkat menggunakan photoresist yang digunakan, lalu tetapkan parameter yang tepat. Setelah itu, proses pemanasan akan berjalan secara konsisten, dan lini litografi Anda akan memiliki stabilitas termal yang dapat diandalkan.