Dans l’usine de fabrication, une ligne de production de type CSP au niveau de la wafer ne peut se permettre aucune variation de température pendant le traitement ou le séchage du photo-résistant. Une variation de 1°C pendant le processus de séchage peut entraîner des changements dans les dimensions critiques de la wafer. De plus, toute humidité restante après le nettoyage peut nuire à la qualité finale du produit. C’est pourquoi nous avons conçu un chauffage par infrarouges pour ces étapes de traitement – où le contrôle de la température est absolument essentiel.
Ce qui est important sur le plan technique Nous utilisons des ondes infrarouges à courte longueur d’onde pour chauffer rapidement la wafer, sans contact physique, avec une précision de ±0,1°C. Les émetteurs en quartz-halogène transmettent l’énergie directement dans le photo-résistant et le substrat, ce qui permet de maintenir une température constante tout au long du processus. Vous pouvez définir la température souhaitée, et les capteurs en boucle fermée assurent que cette température reste constante pendant toute la durée du processus. La largeur du film formé et les résidus restent donc dans les limites prévues.
Ce système est conçu pour fonctionner dans des conditions de salle propre de classe 1–100 : pas de génération de particules, matériaux à faible émission de gaz, et surface lisse permettant un nettoyage facile. Il fonctionne 24/7, avec des intervalles de maintenance prévisibles, ce qui évite les pannes imprévues.
Pourquoi cela convient bien au processus Ce chauffage résout les problèmes liés au séchage de la wafer, au traitement du photo-résistant, ainsi qu’aux étapes de durcissement qui suivent. Un réchauffement rapide permet de réduire le temps de traitement, sans excès de température. La stabilité de la température permet également de réduire les variations dues au refroidissement du photo-résistant.
La consommation d’énergie est réduite, car les émetteurs s’allument uniquement lorsque c’est nécessaire. La masse thermique est faible, ce qui permet d’obtenir une épaisseur de film constante. Il y a aussi moins de défauts après le nettoyage, et le processus peut fonctionner même à grande échelle. Le résultat est une meilleure qualité du produit et moins de déchets – ce qui est directement lié au contrôle précis de la température.
Ce que vous devez savoir L’installation consiste simplement à adapter les interfaces du dispositif aux exigences de votre plateforme : les patterns de montage, les types de connecteurs et la tension doivent correspondre à ceux de votre équipement. Le chauffage fonctionne mieux lorsque le chemin de transmission des ondes infrarouges est clair et que les surfaces réfléchissantes sont bien gérées – sinon, des points chauds peuvent apparaître.
Il est également nécessaire de calibrer régulièrement le pyromètre et de respecter les intervalles de remplacement des émetteurs. En faisant cela, vous maintiendrez une précision de ±0,1°C et donc un contrôle optimal du processus.